第三百一十六章 彎道超車

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東京半導體裝置展有很多年曆史，今年因為新芯宣佈旗下的光刻機業務條線突破了40nm工藝製程，導致這次的東京半導體裝置展格外引人注目。

新芯這個名字在半導體行業內並不陌生，甚至頗有種大名鼎鼎的味道在內，因為這家企業和它的創始人周新一樣，迅速崛起後在業內佔據了重要的地位。

臺積電被它壓制的極其難受，ARM的移動晶片架構成為主流新芯功不可沒，德州儀器、三星、英特爾這些老牌巨頭紛紛下注移動晶片同樣是因為新芯。

因為新芯的地位和行業口碑，讓大家相信新芯確實突破了40nm工藝製程，尤其是友商們，他們更關注另外一件事。

“新芯是如何做到的？”在東京半導體展的開幕式上，小松正志低聲問他旁邊的佐藤博人。

小松正志是霓虹EUVA的執行董事，同時也是小松株式會社的會長，小松株式會社是光源製造商。

在霓虹產經社的主導下，尼康、佳能、小松株式會社、東芝和三菱等等都是EUVA的成員，EUVA的全稱是極紫外光光刻開發協會，極紫外光就是13.5nm波長的光。

因此新芯宣佈攻克40nm製程後，EUVA的成員們並沒有太大的危機感，因為他們一旦攻克了極紫外光，那麼從65nm製程一直到5nm都將暢通無阻。

甚至站在EUVA，也就是協會的立場和小松株式會社的立場來說，小松正志有點巴不得新芯是真的突破了，也就是說那種可以用在大規模生產上有良品率保障的突破，而別是實驗室突破。

因為新芯攻克了40nm工藝製程，意味著EUVA會獲得更多的資源支援，小松株式會社作為其中唯一的光源製造商，自然也會獲得更多的資源扶持。

至於新芯在光刻機市場上徹底擊敗霓虹，小松正志從來沒有想過這種可能性，在他看來這是不可能的事情。

不過後世ASML能夠藉助技術優勢幾乎在短短三年時間內徹底實現逆轉，打的尼康和佳能永世不得翻身，這完全不是市場化行為，而是ASML背後的阿美利肯資本主導下的行為。

為什麼這麼說，因為在ASML靠著浸潤法率先攻克40nm的工藝製程並獲得英特爾的生產驗證後，他們召開了光刻未來技術研討會，會上邀請了10家主要的晶片製造廠商，也就是他們的主要客戶。

會上，ASML表示他們已經藉助浸潤法成功攻克了那道門檻，也就是卡住晶片工藝繼續發展的門檻，希望大家支援浸潤法光刻機作為未來唯一的技術路線，說白了就是隻支援ASML。

在場10家晶片製造廠商裡有6家技術代表你們的浸潤法光刻機沒問題，但是我們也希望讓157nm乾式光刻機繼續發展作為備份的技術路線，因為這樣一旦浸潤式光刻機技術路線遇到阻礙，我們還有第二個選項。

這是非常合理的要求，站在當時那個視角來看，沒人能保證浸潤式絕對沒有問題，工藝製程的發展能夠一馬平川，毫無阻礙。

結果就是ASML在該會議上痛批這幫晶片製造廠商的技術代表們沒有遠見，觀點的參考價值極其有限。

ASML組織了這次技術研討會，研討會後卻完全沒有用會議的討論結果，在背後資本主導下，尼康和佳能的157nm乾式光刻機失去了整個西方資本主導下晶片代工的市場。

小松正志和他的小松株式會社也在這過程中消失在行業內，再也沒有了任何訊息。

“大機率是用的浸潤法，也就是在鏡頭和矽片之間加液體，他們光刻機條線的負責人是林本堅博士，他一直堅持浸潤法是半導體工藝突破的關鍵。

只是不知道他們是如何繞過浸潤法的困難。”佐藤博人說，他是EUVA在御殿場市的研發團隊的負責人。

在光刻機失利後，佐藤博人同樣經歷了很長一段時間的失落和沉寂，和小松正志比起來，他最後還是走出來了，甚至換了個研究方向重新活躍在學術界。

此時意氣風發指點新芯光刻機技術的他們，不會知道這個未來對霓虹的光刻機產業只會更加殘酷。

尼康和佳能這次連殘羹冷炙都吃不到了。

“我也好奇，因為新芯最早是買的我們的光刻機技術，他們如果要採用浸潤法的話，需要完全重新構建整個物鏡光路。

這可不是一個小工作。

這需要耗費大量的人力物力。”小松正志說。

作為光源製造商，他很清楚，尼康的技術關鍵，要想採用浸潤式有太多困難了。

最大的困難就是物鏡光路的改造，尼康的技術最後一塊物鏡是曲面的，曲面鏡片和浸潤式存在天然的不相容。

而ASML的193nm光刻機最後一片鏡片是平的，ASML的物鏡系統可以無縫對接浸沒式系統。

佐藤博人說：“我每次在IEEE的光學大會上和林博士聊，他對光刻機領域如何利用光源非常精通。

想必在他主導下，加上新芯的人才儲備和資源投入，重構整個物鏡光路是完全可行的技術路線。”

“不，不是因為林，新芯能改造我們的物鏡光路，是因為有蔡司的全力支援。”傑夫·懷特說，他是尼康新上任的CEO，不知道什麼時候坐到了佐藤和小松正志的旁邊。

小松正志和佐藤博人都連忙和傑夫·懷特打招呼。

簡單的寒暄後，傑夫·懷特說：“雖然不想承認，但是新芯在光刻機領域的研發速度遠超我們的預計。

其中新芯自身從尼康、佳能挖走大量研發人員是原因之一，他們獲得了蔡司的全力配合是更重要的原因。

對於一套新的光學通路來說，沒有蔡司的配合，新芯無論如何也沒有辦法在短短兩年時間做到重構整個物鏡光路。”

傑夫·懷特很無奈，當年尼康做出把技術賣給新芯的時候他還不是尼康的CEO，後來覆盤的時候他想過，如果當時他是新芯的CEO是一定不會把技術賣給新芯的。

遠在東京的尼康不會知道Newman有多神奇，只有身在矽谷的傑夫·懷特對這一點最有感觸，自從Newman迅速崛起後，他成為了傑夫·懷特日常生活中聽到最多的名人。

三人的閒聊在林本堅上臺後戛然而止，大家都想聽聽新芯的技術路線。

“……我們在晶圓光刻膠上方加了一層，利用這層介質把光源的波長縮短到了150nm以內。因此在不改變光刻機波長情況下，變相擴大了NA，使得193nm波長的能等效出150nm以內的波長！”

“同時因為業內大量的晶片製造廠商們，他們會在一個大的矽片上生產大量不同的晶片，浸潤式光刻法可以避免高掩模成本……”

林本堅在臺上透過一些圖片和實驗結果來展示浸潤式光刻機的優越性，講的非常枯燥乏味，大量的技術內容摻雜著寥寥數筆浸潤式光刻機的技術優勢。

即便如此，臺下來自半導體不同環節的企業代表們沒有一個走神，大家都在全神貫注的聽著新芯的技術路線。

“我就說浸潤式可行，我們不應該在乾式光刻機上再投入資金了。

浸潤式光刻機才是未來。