第二百八十七章 浸潤式光刻機技術路線的獨苗

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在當下的華國，萬人規模的企業還是有的，能達到這個規模的企業一般集中在鐵路、菸草、電信等領域，這些領域有個共同的特點，那就是這些領域屬於民營資本和外資的禁地。

除了這些領域之外，萬人規模的科技型企業非常少。科技型企業的話TCL算是人數最多的民營科技巨頭了，在2000年的時候就有超過五萬人。

在晶片行業，新芯那是獨一份，短短三年時間成長成為華國在晶片領域的獨一無二的巨頭，從營收、利潤、就業崗位等都遙遙領先。

像周新之前公開指責交大夥同陳進造假，在申海溝通前提下還召開新聞釋出會把醜聞公之於眾，一系列絲毫不給申海乃至整個華國高校面子的做法，當眾打臉的行為不但沒有受到任何處罰或者遭受輿論上的壓力，而且還獲得了申海比之前更好的扶持。

根本原因還是在於新芯的實力足夠強，發展速度讓燕京的大人物們和申海地方看到了希望，發展自主可控晶片產業的希望。

對周新而言沒有做出過線行為前，即便他的行為或者言論過線了，也不會怎麼樣。

當下提供了上萬就業崗位的新芯，崗位質量遠超未來的富士康，新芯同樣不會被怎麼樣。

周新在和胡正明聊完新芯以及小米的總體情況後，說：“林叔已經和我說過了，新芯光刻機未來要走浸潤法的技術路線，我贊同他的想法。”

胡正明點頭：“他之前也和我說過，老實說這應該算是他個人的一種夙願，也只有在新芯他才有機會把夙願實現。”

周新有點不太理解，問：“為什麼說是夙願？”

胡正明解釋道：“浸潤法的這一技術路線是本堅最早提出來的，他在上世紀八十年代的時候就認為浸潤法可能是光刻機繼續發展的技術方向之一。

只是一直沒有找到合適的介質，加上之前乾式光刻機發展迅速，因此業界沒有動力也沒有意願去探索一條全新的技術路線。所以當年還在IBM工作的本堅並沒有獲得公司的支援。

導致浸潤式光刻機技術的專利被霓虹人Takanashi已經申請了，本堅對這件事一直耿耿於懷。

現在不一樣，光刻機到了一個瓶頸，90nm就是乾式光刻機的瓶頸，但是對於尼康和佳能這樣的巨頭來說，他們是不願意隨便更換技術路線的。

換技術路線意味著他們在乾式光刻機領域積累的專利都會被埋葬，他們和我們和ASML都重新回到了同一起跑線，他們不會願意這麼幹的。

反而像我們這樣的後來者，更加願意在技術上冒險，倒也不是冒險，而是隻有采用激進的技術路線才有可能實現反超，矽谷太多類似的例子了。”

胡正明說完後，周新有點理解為什麼當年林本堅會在臺積電和新芯之間選擇新芯，因為新芯打算做光刻機，而臺積電沒有類似的計劃。

只有做光刻機，才有機會切換到浸潤式光刻機這一技術路線上去。

按照胡正明的說法，林本堅想走這一技術路線有接近二十年的時間，這是怎樣的一種執念。

周新說：“我同樣看好這一技術路線，我和林叔在這方面達成了一致，甚至我們連浸潤式光刻機要採用哪種介質都有默契。”

胡正明說：“你支援他那就好，老實說不管是本堅還是老關，大家會來新芯，多少都是之前的職業生涯有點不得志。

老關是因為被合夥人給趕走的，你應該比較清楚，本堅和你溝通的沒那麼多，他又比較沉默寡言，除了聊技術能多說兩句外，平時很少聊自己的事情。

我和本堅認識有大概十六年時間了，我還記得當時應該是八十年代年的事情，那時候開一個研討會，本堅作為IBM的技術專家來做介紹，他的主題是未來晶片製造領域繼續發展下去會遇到什麼瓶頸。

當時晶片製造的製程還是一千奈米，哦沒錯，是87年的時候，然後本堅當時就提出瞭如何突破這些瓶頸，裡面就包括浸潤法。當時的辦法有很多，沒有人注意到他的方法。

有點講遠了，剛剛說本堅在IBM不得志，是因為他在IBM的時候做的是深紫外光，而那時候IBM的光學部門主要研究方向是X光，這也導致他其實並沒有那麼得志。

不然他也不會在五十歲的時候申請IBM的內部退休創業。

因此本堅一直認為晶片製程想要突破，光源是關鍵，現在的光源是深紫外光，而要想從深紫外光到極紫外光，浸潤法是關鍵。”

不得不說林本堅的技術嗅覺極其敏銳，極紫外光是晶片製程進入到10nm下的關鍵技術，而如果繼續採取乾式光刻機，極紫外光導致的問題無法解決。

當新芯從周新到胡正明再到林本堅，這一條線的人都達成了共識要走浸潤式光刻機路線時，新芯在光刻機領域的主要對手們都在朝157nm乾式光刻機領域發起衝鋒。

當前90nm製程靠的是193nm波長的乾式光刻機，這一波長的光源極限就是65nm，幾乎不可能再往下了。

業內在實驗室中已經對此進行過了驗證，要想繼續往下，那就得換光源，產業界和學術界想了各種各樣的辦法，這些辦法都指向了一個方向換光源，換波長更短的光源。

可以很明確的說如果沒有林本堅，ASML一定會繼續往乾式光刻機方向發展，因為他們在2000年的時候收購了SVG，一家專注於157nm波長光源的公司，是在這一技術路線上最接近商業化量產的公司。

ASML在157nm乾式光刻機上投入了大量費用，如果不是林本堅先說服了臺積電的總裁蔣尚義，然後由林本堅出席在布魯塞爾舉辦的157nm波長的光刻機技術研討會上說服了大多數專家。

後來依靠臺積電，林本堅完成了浸潤式光刻機的可行性研究，ASML壓根不會走這一技術路線。

歷史的拐點，導致當前全球新芯科技是唯一在浸潤式光刻機上投入資源的廠商。

周新根據自己瞭解到的行業情況，頗有種風雲變化的感覺，他帶來的影響讓ASML進入到了一個前景有限的技術路線裡去了。

靠著之前的技術積累，ASML、尼康、佳能靠著乾式光刻機和新的光源能在45nm都趕上，但是到了45nm之後，乾式光刻機的技術路線一定會出問題，問題就是無論如何最佳化工藝，良品率都遲遲上不去。