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這麼多困難,我們照樣克服了,最終KrF光源代替了g線和i線,成為了今天的最先進的製程光源。

同樣未來短波長的光源勢必然會代替長波長的光源,這是技術進步的必然。

我們剛剛討論的困難只是暫時的困難。”

ASML、尼康和佳能只是暫緩了在ArF上的投入,而不是停止了在ArF技術路線上的投入。

後來ASML實現彎道超車,也是因為他們選擇了正確的技術路線,ArF光源以水為介質,在光刻膠上面抹一層水。

水的介質折射率是1.44,193奈米÷1.44≈134奈米,ArF光源的波長進一步減少了。

ASML能夠幹掉尼康和佳能,壟斷光刻機領域,他們在技術路線的兩個關鍵節點都做出了正確的選擇。

應該穩健的時候他們比尼康穩健,從而在光刻機市場站穩了腳跟。

應該激進的時候他們比尼康激進,從而佔據了高階市場,把高額利潤全部吃掉了,後續一直保持住了技術領先。

ArF技術路線突破之後,ArF的波長是193nm,他最多能夠製造65nm的晶片。

如果要製造40nm製程以下的晶片,需要找到160nm以下的光源。

尼康和佳能等企業選擇的是157nm的F2鐳射,而ASML找到了光源做介質直接一步到位了。

當然沒有加一層水那麼簡單。

“我關於ArF技術路線一直認為是有辦法解決的。

首先是需要專門針對ArF光源設計對應的光刻膠,其次是研發抗反射塗層,然後是改進光刻機的光學系統,找蔡司定製更先進的透鏡。

來實現更高的數值孔徑和解析度。

同時在曝光過程中進行最佳化。我專門針對ArF光源設計了一套解析度增強技術。

包括輔助特徵、離軸照明、雙曝光技術等,用以改善圖案傳輸質量和提高解析度。”林本堅很興奮,難得見到這麼懂ArF技術的同行。

其他懂這玩意的都簽了保密協議,林本堅和他們聊的很不盡興。

華國差的不僅僅是光刻機,差的是整個高階製造業,即便能造出光刻機,光學鏡頭也能卡你脖子。

不過蔡司是德意志企業而且沒上市,阿美利肯的長臂管轄管不到蔡司。

周新聽完之後感慨對方不愧是大師級人物,還沒有加入臺積電已經有完整的計劃了。

同樣一件事,有的人是紙上談兵,有的人是決勝千里之外。

華國價值觀以結果為導向,周新知道林本堅未來的成就,更別說林本堅說的這些都是絕對的乾貨。

又和林本堅探討了一番ArF技術路線的未來後,周新問:“林伯,我打算成立一家光刻機公司,我需要真正懂行的人來幫我。

你有沒有意願來幫我做事,我給你的職位是研發主觀。

首批研發資金十億美元,我給你百分之二十的股份,但是你加入之後需要籤競業協議,同時我們的光刻機公司會放在華國。”

林本堅聽完前半句話想馬上答應下來,十億美元的研發資金,百分之二十的股份。

這是何等的信任,光是十億美元的研發資金,這家企業也最少值10億美元。

直接就是給你兩個億。

聽完後半句他心一涼:“Newman,我知道你是華國人,希望幫助華國在半導體領域有所發展。

我也是華裔,在有能力和有機會的前提下,我同樣希望為華國的半導體行業發展進步貢獻自己的力量。

但是光刻機的研發,非常依賴於和晶片製造廠商之間的合作。

華國沒有什麼成熟的晶片製造廠商,我們把研發基地放在華國,很難有所進展。

不管我是否答應你的條件,我都建議你放在彎彎或者阿美利肯。

彎彎有臺積電,阿美利肯有英特爾的晶片代工廠。

在這兩個地方,你才有機會把你的產品在生產環境中經過充分的實驗。”

ASML的研發中心遍佈全球。

周新說:“世大半導體的張汝京在籌備回華國成立晶片代工廠的事情。

他們的選址、資金和團隊都已經就位了。

我們前期籌備階段和實驗室研發階段,這個時期是不需要和代工廠合作的。

我們的進度會比張汝京那邊的進度更慢,等到我們的實驗室產物研發出來之後,正好可以送到他們那裡去進行驗證。

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